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> 氫化鋯表面ZrO2-Y2O3復(fù)合膜層的制備與性能研究
建立關(guān)鍵金屬的工藝礦物學(xué).pdf - 周有勤
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“鈮”低溫超導(dǎo)材料在射頻超導(dǎo)腔上的應(yīng)用.pdf - 趙偉東
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納米氣泡強(qiáng)化廢棄鋰電池中鋰元素浮選預(yù)富集研究.pdf - 張雅婷
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氫化鋯表面ZrO2-Y2O3復(fù)合膜層的制備與性能研究.pdf - 丁海洋
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在氫化鋯表面制備釔預(yù)制層后進(jìn)行微弧氧化,成功形成了富含四方相氧化鋯(M-ZrO2)與[(ZrO2)0.972(Y2O3)0.028]0.973復(fù)合膜層,提高了膜層的致密性和抗裂紋性能。釔元素在膜層中的分布呈現(xiàn)梯度變化,致密層中無裂紋,且越接近基體致密性越高,顯著增強(qiáng)了膜層的阻氫性能。
在氫化鋯表面制備釔預(yù)制層后進(jìn)行微弧氧化,成功形成了富含四方相氧化鋯(M-ZrO2)與[(ZrO2)0.972(Y2O3)0.028]0.973復(fù)合膜層,提高了膜層的致密性和抗裂紋性能。釔元素在膜層中的分布呈現(xiàn)梯度變化,致密層中無裂紋,且越接近基體致密性越高,顯著增強(qiáng)了膜層的阻氫性能。 收起+
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