化學(xué)機(jī)械拋光裝置包括：工作臺，該工作臺用于支撐拋光墊；承載頭，該承載頭用于將基板的表面固持抵靠在拋光墊上；電機(jī)，該電機(jī)用于生成工作臺與承載頭之間的相對運(yùn)動，以便拋光基板上的上覆層；原位聲學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)；以及控制器。在一些實現(xiàn)中，原位聲學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)包括：聲學(xué)信號發(fā)生器，該聲學(xué)信號發(fā)生器用于發(fā)射聲學(xué)信號；以及聲學(xué)信號傳感器，該聲學(xué)信號傳感器接收從基板的表面反射的聲學(xué)信號?？刂破鞅慌渲脼榛趤碜栽宦晫W(xué)監(jiān)控系統(tǒng)的測量結(jié)果來檢測由于對基板的拋光而導(dǎo)致的下臥層的暴露。