本發(fā)明提供一種研磨?化學機械拋光氮化鎵晶圓片的方法，所述方法至少包括對所述氮化鎵晶圓片的鎵面進行處理的步驟：首先將所述氮化鎵晶圓片固定于研磨平臺上，鎵面面向研磨頭；然后利用XRD測量方法確定所述氮化鎵晶圓片的研磨基面，將具有一定目數(shù)的研磨頭與所述研磨基面平行并壓覆于所述鎵面上，在研磨液作用下將所述鎵面研磨至第一粗糙度；接著更換研磨頭至更高目數(shù)，重復上一步驟直至將所述鎵面研磨至第二粗糙度，所述第二粗糙度小于所述第一粗糙度；最后將所述氮化鎵晶圓片固定于化學機械拋光平臺上，將所述鎵面拋光至符合工藝要求的表面粗糙度。通過本發(fā)明的方法為直接研磨方式，簡化了工藝步驟，降低物料消耗，縮短工藝時間，降低破損率。