本發(fā)明提供了一種用來(lái)對(duì)半導(dǎo)體基板上的二氧化硅和氮化硅進(jìn)行拋光的組合物的制備方法。該方法包括:對(duì)羧酸聚合物進(jìn)行離子交換以減少氨;將0.01-5重量%離子交換的羧酸聚合物與以下組分混合起來(lái):0.001-1重量%的季銨化合物、0.001-1重量%的鄰苯二甲酸及其鹽、0.01-5重量%的磨料和余量的水。
聲明:
“具有改進(jìn)的終點(diǎn)檢測(cè)能力、用來(lái)對(duì)二氧化硅和氮化硅進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光的組合物” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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