在化學(xué)機械拋光裝置中,提供一個具有空腔的晶片承載板,該空腔用于容納非常接近待拋光的晶片的傳感器。由拋光墊和晶片的暴露表面之間的接觸得到的能量僅傳送非常短的距離給傳感器,并由傳感器感測,同時提供關(guān)于晶片的暴露表面特性和這些特性的轉(zhuǎn)變的數(shù)據(jù)。相關(guān)方法提供將感測能量與表面特性以及轉(zhuǎn)變關(guān)聯(lián)的圖表。該相關(guān)圖表可提供用于處理控制的處理狀態(tài)數(shù)據(jù)。
聲明:
“在化學(xué)機械拋光中為了處理狀態(tài)和控制檢測晶片表面特性轉(zhuǎn)變的裝置和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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