本發(fā)明公開了一種二階非線性光學晶體材料，其 分子式為KLiBeF4，晶體空間群 為P63。本發(fā)明還提供了上述二階非線性光學晶體材料的制備 方法，將氫氧化鋰、氫氧化鉀、氟化鈹和氟氫酸銨置入反應器 中，加入蒸餾水，攪拌下加入氫氟酸，調(diào)節(jié)pH值至5－7；密 封，加熱到140～160攝氏度，并保持恒溫20小時以上；降至 室溫，過濾，得到無色透明的晶體；所得晶體用蒸餾水洗滌， 真空干燥，得到二階非線性光學晶體。本發(fā)明二階非線性光學 晶體材料在深紫外、可見光區(qū)和紅外光區(qū)有很大的透光窗口， 有較大的二階非線性光學系數(shù)，具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性；合成方 法具有操作簡單，可以直接獲得單晶等優(yōu)點。