本發(fā)明公開(kāi)了一種提高太赫茲波產(chǎn)生效率和透射率的方法，獲取傾斜角；根據(jù)傾斜角和光柵色散方程獲取傾斜量的函數(shù)表達(dá)式；根據(jù)里特羅入射條件、光柵方程和傾斜量的函數(shù)表達(dá)式獲取鈮酸鋰晶體的前表面光柵刻線密度；通過(guò)模態(tài)法對(duì)光柵建模，根據(jù)光柵負(fù)一級(jí)衍射效率與光柵的填充系數(shù)、刻槽深度的關(guān)系，獲取刻槽寬度和刻槽深度；根據(jù)前表面光柵刻線密度、刻槽寬度和刻槽深度，在加工容差范圍內(nèi)，通過(guò)微納加工方法在鈮酸鋰晶體的入射面刻有光柵結(jié)構(gòu)，光柵刻線平行于鈮酸鋰晶體的光軸；通過(guò)微納加工在鈮酸鋰晶體的出射界面增加微直角棱錐結(jié)構(gòu)；抽運(yùn)激光器在鈮酸鋰晶體前表面以特定的入射角發(fā)射抽運(yùn)光，在出射界面產(chǎn)生太赫茲波。本發(fā)明簡(jiǎn)化了元件，縮短了光路。