本發(fā)明屬于加載條型光波導(dǎo)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種二氧化硅加載條型波導(dǎo)及其制作方法。所述二氧化硅加載條型波導(dǎo)從下到上依次包括：單晶鈮酸鋰襯底、二氧化硅緩沖層、單晶鈮酸鋰薄膜、二氧化硅加載條，所述二氧化硅緩沖層覆蓋于單晶鈮酸鋰襯底上，單晶鈮酸鋰薄膜覆蓋于二氧化硅緩沖層上，若干個所述二氧化硅加載條排列、覆蓋在單晶鈮酸鋰薄膜上。本發(fā)明制備的加載條型光波導(dǎo)損耗低，僅為0.16dB/cm，同時，與其他加載條用刻蝕工藝來制備的方式相比較，本發(fā)明的制備工藝中二氧化硅加載條不需要額外的刻蝕步驟，通過反剝工藝即可實現(xiàn)加載條的制備，制作工藝簡易方便，易于實現(xiàn)。