本發(fā)明公開了一種光催化降解DON的鈦基
納米材料制備方法及其應(yīng)用方法,采用熱穩(wěn)定性高、無毒環(huán)保、制備路線簡單且原料成本低廉的g?C3N4對傳統(tǒng)光催化材料TiO2進行改性,制備鈦基
復(fù)合材料g?C3N4/TiO2,本發(fā)明公開的光催化降解DON的鈦基納米材料制備方法簡單,產(chǎn)率高,TiO2與g?C3N4的復(fù)合效果好,鈦基納米材料能有效增強傳統(tǒng)納米材料TiO2的光利用效率,進而為促進DON的高效催化降解問題提供技術(shù)支持;并公開了光催化降解DON的鈦基納米材料的應(yīng)用方法,該應(yīng)用方法具有處理簡單快速、降解率高等優(yōu)點,可適用于溶液中真菌毒素不僅限于DON的降解、轉(zhuǎn)化和去除,為保障我國糧食及飼料質(zhì)量安全提供有效的借鑒和技術(shù)支撐。
聲明:
“光催化降解DON的鈦基納米材料制備方法及其應(yīng)用方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)