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基于光學(xué)干涉技術(shù)測量樣品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底

881   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:21:41
本實(shí)用新型公開了基于光學(xué)干涉技術(shù)測量樣品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底,包括二氧化硅層,所述二氧化硅層的底部設(shè)置有銀反射層,所述銀反射層的頂部和底部均固定連接有鈦層,所述鈦層的頂部與二氧化硅層的內(nèi)壁固定連接。本實(shí)用新型通過頂層是二氧化硅層,可以更輕松地對其進(jìn)行改性,比云母表面更有效地清潔這些復(fù)合材料表面,這些復(fù)合材料表面可以提前大量生產(chǎn),并且在環(huán)境條件下或在真空下至少可以保持穩(wěn)定數(shù)月,通過將銀反射層埋入聚合物層和二氧化硅層,故此都可以進(jìn)行調(diào)整,以適應(yīng)表面的光學(xué)、電氣、結(jié)構(gòu)和機(jī)械特性,從而達(dá)到了局限性小的效果,解決了現(xiàn)有的表面力儀局限性較大的問題。
聲明:
“基于光學(xué)干涉技術(shù)測量樣品表面相互作用的超光滑二氧化硅基底” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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