一種氧化鉑作掩膜的只讀超分辨光盤，其構(gòu)成是 在盤基礎(chǔ)上依次鍍有第二保護層、氧化鉑掩膜層和第一保護 層，所述的第一保護層和第二保護層均是由硫化鋅∶二氧化硅 ＝80∶20的復(fù)合材料構(gòu)成的薄膜層；所述的氧化鉑中的含 O2量由濺射過程中 O2/(O2+Ar)的分壓比例決定，分壓比的取值范圍為0.1～0.4。所 述的氧化鉑掩膜層是由厚度為15－80nm的納米氧化鉑薄膜 層。本發(fā)明氧化鉑作掩膜的只讀超分辨光盤具有穩(wěn)定性好、信 噪比更高和更好的讀出循環(huán)性。