本發(fā)明公開了一種抗靜電復(fù)合
納米材料薄膜及其制備方法。首先利用改進Hummers法制備氧化
石墨烯納米帶,用KH550進行改性得到K?GONRs,再用水合肼還原,制得FGNRs;然后FGNRs與CNFs在超聲狀態(tài)下共混,形成納米
復(fù)合材料,最后以TPU樹脂為基體,采用溶液涂覆成膜工藝制得FGNRs?CNFs/TPU復(fù)合薄膜。本發(fā)明中FGNRs附著在骨架CNFs上形成穩(wěn)定的FGNRs?CNFs網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),這有利于其在TPU中均勻分散。FGNRs?CNFs插層與TPU基體間的緊密結(jié)合使得復(fù)合材料薄膜具有優(yōu)異的抗靜電性能和阻隔性能,可以應(yīng)用在日益發(fā)達的電子精密材料上面,具有廣泛的應(yīng)用前景。
聲明:
“抗靜電復(fù)合納米材料薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)