氧化錫空心納米材料的制備方法，涉及一種納米 材料的制備，尤其是涉及一種以氧化鋅為犧牲模板制備氧化錫 空心納米材料的方法。提供一種制備各種形態(tài)的 SnO2空心納米材料的通用方法。 步驟為制備ZnO納米材料，制備 SnH4前驅(qū)體，產(chǎn)生的氣體 SnH4通過 N2攜帶進入一個氣囊中備用，生 長SnO2外殼，即在硅片襯底上 生長得到具有核－殼結(jié)構(gòu)的 ZnO/SnO2復(fù)合材料，最后除去 ZnO內(nèi)核，即得到保持ZnO初始外形的 SnO2空心納米材料。優(yōu)點是ZnO 納米材料具有極其豐富的形態(tài)， SnO2空心材料外壁的結(jié)晶度良 好，SnO2空心材料外壁的厚度可 控。