光譜頻帶分析儀,其特征在于,主要包括:光源裝置,光束微調(diào)裝置,光譜篩選裝置,光束隔離裝置,偏振反射裝置,整流反射裝置,單聚焦反射裝置,光電轉(zhuǎn)換裝置,放大裝置,顯示記錄裝置;其中,光源裝置含有光束發(fā)射電極,電極材料為釓釕合金;光束微調(diào)裝置含有半凹面反射透鏡,透鏡表明覆蓋有
硅烷硫化鈧鎂納米復(fù)合薄膜;光譜篩選裝置含有八棱反光透鏡,透鏡表面鍍有兩層厚度均為0.8um的反光膜,上層反光膜含有六硝酸鈰鈩
復(fù)合材料,下層反光膜含有八鉻酸鉭銠復(fù)合材料;光束隔離裝置含有十三陵柱型透鏡,四微孔狹縫衍射器,雙凹面透鏡,三者的排列方式為:沿著光束主軸傳播方向,十三陵柱型透鏡位于前端,四微孔狹縫衍射器居中,雙凹面透鏡位于最后。
聲明:
“光譜頻帶分析儀” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)