本發(fā)明涉及高分子材料技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種低介電常數(shù)高耐候聚丙烯
復(fù)合材料及其制備方法。該聚丙烯復(fù)合材料包括以下組分:聚丙烯樹脂、液晶高分子、相容劑、空心玻璃微珠、PTFE微粉、抗氧劑以及耐候助劑;按重量份計(jì),所述聚丙烯樹脂、液晶高分子、空心玻璃微珠與PTFE微粉的比值為(65~85):(5~10):(8~20):(0.1~0.3);所述耐候助劑為光穩(wěn)定劑;按重量份計(jì),所述抗氧劑與耐候助劑的比值為(0.4~0.8):(0.1~0.3)。本發(fā)明提供的低介電常數(shù)高耐候聚丙烯復(fù)合材料兼具高強(qiáng)度、高耐候、低介電常數(shù)等優(yōu)異性能,能夠滿足市場(chǎng)應(yīng)用需求;其是一類非常適用于5G產(chǎn)品的材料,特別是5G基站天線罩等產(chǎn)品的應(yīng)用。
聲明:
“低介電常數(shù)高耐候聚丙烯復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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