本發(fā)明涉及一種以單晶硅為載體的消反射雙層P/N異質(zhì)結(jié)的層級(jí)
復(fù)合材料,依以下方法制備:(1)首先對(duì)硅片進(jìn)行親水處理,在其表面生長二氧化鈦晶種,并置于馬弗爐內(nèi)煅燒;(2)然后將步驟(1)中所得到的表面附有二氧化鈦晶種的硅片置于反應(yīng)釜中,采用水熱合成的方法在硅片表面誘導(dǎo)生長二氧化鈦納米棒;(3)最后在步驟(2)中得到的二氧化鈦納米棒上沉積聚吡咯納米粒子,得到以單晶硅為載體的消反射雙層P/N異質(zhì)結(jié)層級(jí)復(fù)合材料。本發(fā)明所涉及的以單晶硅為載體的消反射雙層P/N異質(zhì)結(jié)層級(jí)復(fù)合材料具有優(yōu)異的降低材料表面光反射和高效分離光生電荷的能力,可以應(yīng)用到光催化、光電轉(zhuǎn)化器件和
太陽能電池等領(lǐng)域。
聲明:
“以單晶硅為載體的消反射雙層P/N異質(zhì)結(jié)的層級(jí)復(fù)合材料及應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)