本發(fā)明涉及一種基于二維納米導(dǎo)電材料的
復(fù)合材料及其制備方法,所述復(fù)合材料包括基底,以及在基底的至少一個主表面形成的導(dǎo)電層,所述基底由包括彈性材料的組合物形成,并且,所述基底表面具有連續(xù)或不連續(xù)的凸起;所述導(dǎo)電層包括二維納米導(dǎo)電材料,所述二維納米導(dǎo)電材料包括二維過渡金屬碳/氮化合物,所述導(dǎo)電層平均厚度為10μm以下,并且,所述導(dǎo)電層至少部分地覆蓋基底中存在所述凸起的區(qū)域,所述復(fù)合材料在經(jīng)歷形變時能夠具有優(yōu)良的電導(dǎo)穩(wěn)定性,并且可以作為電磁屏蔽材料。
聲明:
“基于二維納米導(dǎo)電材料的復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)