提供一種用于物理氣相沉積的涂層源1,所述涂層源具有在
粉末冶金生產(chǎn)過程中由至少一種粉狀起始材料制成的至少一個(gè)組件2;7以及嵌入在所述組件中的至少一個(gè)鐵磁區(qū)域5a、5b、6。所述至少一個(gè)鐵磁區(qū)域5a、5b、6是在所述粉末冶金生產(chǎn)過程中被引入到所述組件2;7中并且固定地連接到所述組件。
聲明:
“涂層源及其生產(chǎn)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)