本發(fā)明公開了一種冶金光譜特征回歸方法、裝置、電子設(shè)備和存儲介質(zhì)。包括：將帶有目標(biāo)元素濃度標(biāo)簽值和光譜特征值的物料樣本，按照濃度標(biāo)簽值，等距離劃分為預(yù)設(shè)數(shù)量的段，標(biāo)記每段包括的物料樣本的數(shù)量；根據(jù)每段包括的物料樣本的數(shù)量中的最大值，和每段包括的物料樣本的數(shù)量，得到每段對應(yīng)的權(quán)重；構(gòu)建回歸方程；根據(jù)每段對應(yīng)的權(quán)重和回歸方程，構(gòu)建加權(quán)損失函數(shù)；將每段包括的物料樣本的濃度標(biāo)簽值和光譜特征值代入加權(quán)損失函數(shù)，根據(jù)加權(quán)損失函數(shù)確定述回歸方程系數(shù)，使用回歸方程完成物料樣本分布不均衡的回歸優(yōu)化。能夠解決物料樣本目標(biāo)元素濃度分布不均衡情況下的小樣本LIBS光譜數(shù)據(jù)欠擬合問題，提升小樣本LIBS光譜的預(yù)測精度。