權(quán)利要求書： 1.一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括依次連接的焚燒爐、余熱鍋爐、急冷塔、除塵器、鹽酸吸收塔、堿洗塔、再熱器、SCR反應(yīng)器和吸附設(shè)備；所述焚燒爐的頂部設(shè)有燃燒器，所述燃燒器的出口連接至焚燒爐的頂部入口。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述焚燒爐包括立式頂燃爐，所述焚燒爐上設(shè)有廢氣入口和廢液入口，所述廢液入口處設(shè)有噴嘴。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述燃燒器的入口通入天然氣和空氣。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述余熱鍋爐包括膜式壁余熱鍋爐，所述焚燒爐的底部出口通過(guò)傾斜煙道與余熱鍋爐的熱源入口相連，兩者共用一個(gè)排灰口。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述除塵器包括布袋除塵器。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述處理裝置還包括降溫吸收塔，所述降溫吸收塔設(shè)置于除塵器和鹽酸吸收塔之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述處理裝置還包括引風(fēng)機(jī)，所述引風(fēng)機(jī)設(shè)置于堿洗塔和再熱器之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述再熱器包括換熱器或燃燒器，所述燃燒器包括煙道式燃燒器。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述吸附設(shè)備包括活性炭吸附箱。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，其特征在于，所述處理裝置還包括煙囪，所述吸附設(shè)備的氣體出口與煙囪相連。

說(shuō)明書： 一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型屬于廢棄物回收處理技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，尤其涉及一種多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中排出的含氯硅烷廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置。背景技術(shù)[0002] 隨著微電子產(chǎn)業(yè)和光伏產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，對(duì)其基礎(chǔ)原材料多晶硅的需求也與日俱增，多晶硅在化工、冶金、機(jī)械、電子等眾多學(xué)科與領(lǐng)域中均有廣泛應(yīng)用。而隨著多晶硅產(chǎn)量和規(guī)模的不斷擴(kuò)大，其生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)排出大量廢氣、廢液，其中會(huì)含有氯硅烷等污染物，若不及時(shí)處理會(huì)造成環(huán)保及安全問(wèn)題，這已成為整個(gè)多晶硅產(chǎn)業(yè)鏈中急需解決的瓶頸之一。[0003] 根據(jù)多晶硅生產(chǎn)所用的原料，其產(chǎn)生的廢氣、廢液中會(huì)含有三氯氫硅、四氯化硅和二氯二氫硅等氯硅烷，以及少量金屬雜質(zhì)氯化物，針對(duì)上述廢氣、廢液的處理，目前常采用水解堿吸收法、石灰乳中和沉淀法以及焚燒處理法等。其中，水解堿吸收法通常是將廢氣、廢液送入淋洗塔，用氫氧化鈉溶液連續(xù)洗滌，經(jīng)過(guò)濾后，渣外運(yùn)填埋，過(guò)濾液送入廢水處理工序繼續(xù)處理，但該方法會(huì)產(chǎn)生大量的廢水、廢渣，尤其是堿消耗量大，容易結(jié)渣導(dǎo)致設(shè)備不能正常運(yùn)行；石灰乳中和沉淀法同樣會(huì)產(chǎn)生大量廢渣，同時(shí)氯離子仍存在于溶液中，不能直接排放，需要進(jìn)行后續(xù)處理。[0004] 焚燒處理法是一種新興的處理技術(shù)，在焚燒爐中將有毒難處理的氯硅烷經(jīng)高溫水解生成易處理物質(zhì)。CN111457400A公開了一種含有機(jī)硅烷廢氣廢液焚燒系統(tǒng)及工藝，該系統(tǒng)包括依次連接的一次焚燒室、二次焚燒室和尾氣凈化裝置，含有機(jī)硅烷廢氣經(jīng)廢氣預(yù)處理裝置送入一次焚燒室，含有機(jī)硅烷廢液經(jīng)高壓霧化裝置送入一次焚燒室，廢氣預(yù)處理裝置包括依次連接的噴淋水洗塔、冷凝器、水封罐和阻火器，噴淋水洗塔的廢氣進(jìn)口Ⅰ通入外部含有機(jī)硅烷廢氣，廢氣進(jìn)口Ⅱ和廢氣出口Ⅰ連接廢氣緩存罐，廢氣出口Ⅱ連接冷凝器，廢氣出口Ⅲ連接活性炭吸附罐；冷凝器另通過(guò)氣體檢測(cè)儀連接活性炭吸附罐；該系統(tǒng)及工藝中整體較為復(fù)雜，焚燒處理包括兩步操作，還在焚燒處理前進(jìn)行預(yù)處理回收部分組分，且未涉及對(duì)氮氧化物的處理。[0005] CN112628772A公開了一種甲基氯硅烷生產(chǎn)廢氣焚燒的工藝，該工藝包括將甲基氯硅烷生產(chǎn)廢氣壓力調(diào)節(jié)后送至焚燒爐，焚燒后煙氣經(jīng)NCR除氮氧化物后進(jìn)入余熱回收裝置，余熱回收后的煙氣進(jìn)入急冷塔，經(jīng)急冷降溫后進(jìn)入鹽酸吸收塔除去大部分氯化氫，然后經(jīng)堿洗塔進(jìn)一步除氯，最后經(jīng)過(guò)濕電除塵器除去粉塵，再加熱后高空排放。該工藝中去除氮氧化物的步驟所需溫度極高，且位于焚燒步驟之后，容易發(fā)生其他副反應(yīng)，不利于其他產(chǎn)物的回收。[0006] 綜上所述，對(duì)于含氯硅烷的廢氣和廢液的處理，在采用焚燒處理后，還需要選擇合適的組合設(shè)備，以分離并回收各類產(chǎn)物，并提高系統(tǒng)熱量的利用率。實(shí)用新型內(nèi)容

[0007] 針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，所述處理裝置以焚燒爐為源頭，對(duì)含氯硅烷的廢氣和廢液進(jìn)行焚燒處理，再依次連接各級(jí)設(shè)備對(duì)反應(yīng)產(chǎn)物及其攜帶的熱量進(jìn)行分離或回收，改善了常規(guī)方法針對(duì)該類廢棄物處理不徹底以及氯離子難以去除的問(wèn)題，產(chǎn)品及熱量回收率高，且不會(huì)造成二次污染。[0008] 為達(dá)此目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：[0009] 本實(shí)用新型提供了一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，所述處理裝置包括依次連接的焚燒爐、余熱鍋爐、急冷塔、除塵器、鹽酸吸收塔、堿洗塔、再熱器、SCR反應(yīng)器和吸附設(shè)備；所述焚燒爐的頂部設(shè)有燃燒器，所述燃燒器的出口連接至焚燒爐的頂部入口。[0010] 本實(shí)用新型中，在多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中，根據(jù)原料種類的選擇，會(huì)產(chǎn)生含氯硅烷的廢氣和廢液，通過(guò)采用焚燒爐，通過(guò)高溫水解反應(yīng)，將氯硅烷轉(zhuǎn)化為容易處理的SiO2、HCl和少量Cl2等物質(zhì)，產(chǎn)生的煙氣先經(jīng)過(guò)余熱鍋爐進(jìn)行熱量回收，再經(jīng)過(guò)急冷降溫以避免二噁英等有害副產(chǎn)物的生成，之后經(jīng)過(guò)除塵器、鹽酸吸收塔分別回收SiO2顆粒和HCl，堿洗塔則進(jìn)一步去除剩余的少量HCl和Cl2，經(jīng)過(guò)再熱器升溫后進(jìn)行SCR脫硝處理，脫硝后的煙氣經(jīng)過(guò)吸附處理后排放；經(jīng)過(guò)上述處理，能夠有效解決常規(guī)方法對(duì)含氯硅烷廢棄物處理不徹底，氯離子難以去除的問(wèn)題，可極大提高含氯硅烷的破除率和處理效果，余熱及產(chǎn)品回收率高；所述處理裝置結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，不會(huì)造成二次污染，環(huán)保經(jīng)濟(jì)。[0011] 以下作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，但不作為本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案的限制，通過(guò)以下技術(shù)方案，可以更好地達(dá)到和實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的技術(shù)目的和有益效果。[0012] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述焚燒爐包括立式頂燃爐，所述焚燒爐上設(shè)有廢氣入口和廢液入口，所述廢液入口處設(shè)有噴嘴。[0013] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述燃燒器的入口通入天然氣和空氣。[0014] 本實(shí)用新型中，所述焚燒爐選擇立式頂燃爐，其原因在于：一是氯硅烷燃燒會(huì)產(chǎn)生大量SiO2顆粒，該物質(zhì)熔點(diǎn)高，在高溫下依舊為固態(tài)，采用臥式結(jié)構(gòu)的焚燒爐易堵塞煙氣出口管道，而采用立式焚燒爐有利于清灰；二是采用立式爐，廢液霧化后從爐頭噴入，下落行程長(zhǎng)，可實(shí)現(xiàn)充分燃燒，而臥式爐易出現(xiàn)廢液燃燒不完全，粘附爐壁現(xiàn)象；再就是立式爐可節(jié)省占地；[0015] 由于廢氣和廢液的相態(tài)不同，兩者進(jìn)入焚燒爐的方式也會(huì)不同，廢氣可先進(jìn)入廢氣緩沖罐，通過(guò)壓力調(diào)節(jié)閥控制其進(jìn)入壓力，廢液通過(guò)管道進(jìn)入時(shí)進(jìn)行霧化噴射，便于進(jìn)行焚燒處理，其中霧化噴射采用蒸汽作為霧化介質(zhì)，一方面靠蒸汽加熱降低廢液的粘度，另一方面則提高爐內(nèi)的氫氯比，抑制氯氣的生成；由于廢氣廢液自身的熱值較高，焚燒爐在開車工況時(shí)通入天然氣將爐膛溫度提升至1000℃左右后再逐步通入廢氣廢液，再降低天然氣用量，即正常工況下無(wú)需大量天然氣提供熱量，僅作為燃料伴燒，空氣作為助燃?xì)猓裙柰樵谌紵^(guò)程中充分高溫水解。[0016] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述余熱鍋爐包括膜式壁余熱鍋爐，所述焚燒爐的底部出口通過(guò)傾斜煙道與余熱鍋爐的熱源入口相連，兩者共用一個(gè)排灰口。[0017] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述急冷塔的冷卻介質(zhì)包括冷卻水，通過(guò)霧化噴槍霧化后進(jìn)入煙氣中急劇換熱，霧化水汽與煙氣直接接觸，換熱后由煙氣帶走。[0018] 本實(shí)用新型中，所述急冷塔的設(shè)置主要是對(duì)煙氣進(jìn)行急速降溫，避免在煙氣在較高溫度下生成二噁英等有害物質(zhì)，通過(guò)采用上述冷卻介質(zhì)，煙氣降溫極快，一秒內(nèi)降低數(shù)百℃，例如1s內(nèi)煙氣溫度由600℃降至200℃。[0019] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述除塵器包括布袋除塵器。[0020] 本實(shí)用新型中，所述除塵器選擇布袋除塵器，其中布袋可選擇聚四氟乙烯覆膜布袋，耐受溫度可達(dá)到250℃；通過(guò)除塵器將煙氣中的SiO2顆粒捕集下來(lái)進(jìn)入灰倉(cāng)，除塵工藝為干法除塵，除塵效率高且節(jié)省大量水資源，不產(chǎn)生廢水廢渣，可實(shí)現(xiàn)有用資源的回收利用。[0021] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述處理裝置還包括降溫吸收塔，所述降溫吸收塔設(shè)置于除塵器和鹽酸吸收塔之間。[0022] 本實(shí)用新型中，除塵后的煙氣溫度仍較高，不適合HCl的直接吸收，設(shè)置降溫吸收塔進(jìn)行二次降溫，之后通過(guò)鹽酸吸收塔回收煙氣中的HCl，將鹽酸吸收塔設(shè)置在除塵器之后，回收的鹽酸較為潔凈，可作為產(chǎn)品使用。[0023] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述處理裝置還包括引風(fēng)機(jī)，所述引風(fēng)機(jī)設(shè)置于堿洗塔和再熱器之間。[0024] 本實(shí)用新型中，根據(jù)上述處理裝置的不同階段，裝置系統(tǒng)內(nèi)的壓力也會(huì)不同，前端的焚燒爐可采用助燃風(fēng)機(jī)建立正壓，中段由引風(fēng)機(jī)建立負(fù)壓，便于煙氣的流動(dòng)，引風(fēng)機(jī)可選擇玻璃鋼材質(zhì)，避免發(fā)生腐蝕的問(wèn)題，而后端脫硝處理時(shí)又采用正壓。[0025] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述再熱器包括換熱器或燃燒器，所述燃燒器包括煙道式燃燒器。[0026] 本實(shí)用新型中，由于煙氣降溫后溫度低于SCR脫硝處理的溫度，因而需要進(jìn)行再熱，而SCR反應(yīng)器內(nèi)則裝填SCR脫硝催化劑，并通入氨作為反應(yīng)原料，與煙氣中的氮氧化物反應(yīng)。[0027] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述吸附設(shè)備包括活性炭吸附箱。[0028] 作為本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案，所述處理裝置還包括煙囪，所述吸附設(shè)備的氣體出口與煙囪相連。[0029] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果：[0030] (1)本實(shí)用新型所述處理裝置以焚燒爐為源頭，對(duì)含氯硅烷的廢氣和廢液進(jìn)行焚燒處理，將氯硅烷轉(zhuǎn)化為容易處理的SiO2、HCl及Cl2等物質(zhì)，再依次連接各級(jí)設(shè)備對(duì)反應(yīng)產(chǎn)物及其攜帶的熱量進(jìn)行分離或回收，回收得到SiO2、鹽酸等產(chǎn)品，解決了常規(guī)方法針對(duì)該類廢棄物處理不徹底以及氯離子難以去除的問(wèn)題，極大提高含氯硅烷的去除率，可以達(dá)到99.8％以上，產(chǎn)品及余熱回收率高；

[0031] (2)本實(shí)用新型所述處理裝置結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，不會(huì)造成二次污染，環(huán)保經(jīng)濟(jì)。附圖說(shuō)明[0032] 圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1提供的含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；[0033] 其中，1?焚燒爐，2?燃燒器，3?余熱鍋爐，4?急冷塔，5?除塵器，6?降溫吸收塔，7?鹽酸吸收塔，8?堿洗塔，9?引風(fēng)機(jī)，10?再熱器，11?SCR反應(yīng)器，12?吸附設(shè)備，13?煙囪。具體實(shí)施方式[0034] 為更好地說(shuō)明本實(shí)用新型，便于理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案，下面對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，但下述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型的簡(jiǎn)易例子，并不代表或限制本實(shí)用新型的權(quán)利保護(hù)范圍，本實(shí)用新型保護(hù)范圍以權(quán)利要求書為準(zhǔn)。[0035] 本實(shí)用新型具體實(shí)施方式部分提供了一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，所述處理裝置包括依次連接的焚燒爐1、余熱鍋爐3、急冷塔4、除塵器5、鹽酸吸收塔7、堿洗塔8、再熱器10、SCR反應(yīng)器11和吸附設(shè)備12；所述焚燒爐1的頂部設(shè)有燃燒器2，所述燃燒器2的出口連接至焚燒爐1的頂部入口。

[0036] 以下為本實(shí)用新型典型但非限制性實(shí)施例：[0037] 實(shí)施例1：[0038] 本實(shí)施例提供了一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，所述處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示，包括依次連接的焚燒爐1、余熱鍋爐3、急冷塔4、除塵器5、鹽酸吸收塔7、堿洗塔8、再熱器10、SCR反應(yīng)器11和吸附設(shè)備12；所述焚燒爐1的頂部設(shè)有燃燒器2，所述燃燒器2的出口連接至焚燒爐1的頂部入口。[0039] 所述焚燒爐1包括立式頂燃爐，所述焚燒爐1上設(shè)有廢氣入口和廢液入口，所述廢液入口處設(shè)有噴嘴。[0040] 所述燃燒器2的入口通入天然氣和空氣。[0041] 所述余熱鍋爐3包括膜式壁余熱鍋爐，所述焚燒爐1的底部出口通過(guò)傾斜煙道與余熱鍋爐3的熱源入口相連，兩者共用一個(gè)排灰口。[0042] 所述急冷塔4的冷卻介質(zhì)為工業(yè)冷卻水。[0043] 所述除塵器5為布袋除塵器，所述布袋材質(zhì)為聚四氟乙烯。[0044] 所述處理裝置還包括降溫吸收塔6，所述降溫吸收塔6設(shè)置于除塵器5和鹽酸吸收塔7之間。[0045] 所述處理裝置還包括引風(fēng)機(jī)9，所述引風(fēng)機(jī)9設(shè)置于堿洗塔8和再熱器10之間。[0046] 所述再熱器10為煙道式燃燒器。[0047] 所述吸附設(shè)備12為活性炭吸附箱。[0048] 所述處理裝置還包括煙囪13，所述吸附設(shè)備12的氣體出口與煙囪13相連。[0049] 實(shí)施例2：[0050] 本實(shí)施例提供了一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，所述處理裝置包括依次連接的焚燒爐1、余熱鍋爐3、急冷塔4、除塵器5、鹽酸吸收塔7、堿洗塔8、再熱器10、SCR反應(yīng)器11和吸附設(shè)備12；所述焚燒爐1的頂部設(shè)有燃燒器2，所述燃燒器2的出口連接至焚燒爐1的頂部入口。[0051] 所述焚燒爐1包括立式頂燃爐，所述焚燒爐1上設(shè)有廢氣入口和廢液入口，所述廢液入口處設(shè)有噴嘴。[0052] 所述燃燒器2的入口通入天然氣和空氣。[0053] 所述余熱鍋爐3包括膜式壁余熱鍋爐，所述焚燒爐1的底部出口通過(guò)傾斜煙道與余熱鍋爐3的熱源入口相連，兩者共用一個(gè)排灰口。[0054] 所述除塵器5為布袋除塵器，所述布袋材質(zhì)為陶瓷纖維。[0055] 所述處理裝置還包括引風(fēng)機(jī)9，所述引風(fēng)機(jī)9設(shè)置于堿洗塔8和再熱器10之間。[0056] 所述再熱器10為管殼式換熱器。[0057] 所述吸附設(shè)備12為活性炭吸附箱。[0058] 所述處理裝置還包括煙囪13，所述吸附設(shè)備12的氣體出口與煙囪13相連。[0059] 實(shí)施例3：[0060] 本實(shí)施例提供了一種含氯硅烷的廢氣和廢液焚燒及回收處理裝置，所述處理裝置包括依次連接的焚燒爐1、余熱鍋爐3、急冷塔4、除塵器5、鹽酸吸收塔7、堿洗塔8、再熱器10、SCR反應(yīng)器11和吸附設(shè)備12；所述焚燒爐1的頂部設(shè)有燃燒器2，所述燃燒器2的出口連接至焚燒爐1的頂部入口。[0061] 所述焚燒爐1包括立式頂燃爐，所述焚燒爐1上設(shè)有廢氣入口和廢液入口，所述廢液入口處設(shè)有噴嘴。[0062] 所述燃燒器2的入口通入天然氣和空氣。[0063] 所述余熱鍋爐3包括火管余熱鍋爐，所述焚燒爐1的底部出口通過(guò)傾斜煙道與余熱鍋爐3的熱源入口相連。[0064] 所述除塵器5為電除塵器。[0065] 所述處理裝置還包括降溫吸收塔6，所述降溫吸收塔6設(shè)置于除塵器5和鹽酸吸收塔7之間。[0066] 所述處理裝置還包括引風(fēng)機(jī)9，所述引風(fēng)機(jī)9設(shè)置于堿洗塔8和再熱器10之間。[0067] 所述再熱器10為煙道式燃燒器。[0068] 所述吸附設(shè)備12為活性炭吸附箱。[0069] 所述處理裝置還包括煙囪13，所述吸附設(shè)備12的氣體出口與煙囪13相連。[0070] 采用上述實(shí)施例中的裝置處理多晶硅生產(chǎn)過(guò)程中排出的含氯硅烷的廢氣和廢液，主要包括以下操作過(guò)程：[0071] 將含氯硅烷的廢氣、廢液通過(guò)管道分別送至焚燒爐1內(nèi)，在焚燒爐1中，采用天然氣和助燃空氣，通過(guò)高溫水解反應(yīng)，將氯硅烷生成容易處理的SiO2、HCl和少量Cl2等物質(zhì)；產(chǎn)生的高溫?zé)煔馔ㄟ^(guò)余熱鍋爐3回收熱量；為了阻止煙氣中二噁英的生成，余熱鍋爐3出口煙氣進(jìn)入急冷塔4進(jìn)行急冷，1s內(nèi)將煙氣溫度可由600℃降至200℃；煙氣從急冷塔4出來(lái)后進(jìn)入除塵器5，將煙氣中的SiO2顆粒捕集下來(lái)進(jìn)入灰倉(cāng)；除塵后的煙氣進(jìn)入降溫吸收塔6二次降溫之后通過(guò)鹽酸吸收塔7回收煙氣中的HCl；煙氣中剩余的少量HCl和Cl2通過(guò)堿洗塔8去除后經(jīng)引風(fēng)機(jī)9送至煙道式再熱器10加熱后進(jìn)行SCR脫硝處理，脫硝后的煙氣經(jīng)過(guò)活性炭吸附后排入煙囪13。[0072] 綜合上述實(shí)施例可以看出，本實(shí)用新型所述處理裝置以焚燒爐為源頭，對(duì)含氯硅烷的廢氣和廢液進(jìn)行焚燒處理，將氯硅烷轉(zhuǎn)化為容易處理的SiO2、HCl及Cl2等物質(zhì)，再依次連接各級(jí)設(shè)備對(duì)反應(yīng)產(chǎn)物及其攜帶的熱量進(jìn)行分離或回收，回收得到SiO2、鹽酸等產(chǎn)品，解決了常規(guī)方法針對(duì)該類廢棄物處理不徹底以及氯離子難以去除的問(wèn)題，極大提高含氯硅烷的去除率，可以達(dá)到99.8％以上，產(chǎn)品及余熱回收率高；所述處理裝置結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，不會(huì)造成二次污染，環(huán)保經(jīng)濟(jì)。[0073] 本實(shí)用新型通過(guò)上述實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本實(shí)用新型的詳細(xì)裝置，但本實(shí)用新型并不局限于上述詳細(xì)裝置，即不意味著本實(shí)用新型必須依賴上述詳細(xì)裝置才能實(shí)施。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了，對(duì)本實(shí)用新型的任何改進(jìn)，對(duì)本實(shí)用新型裝置的等效替換及輔助裝置的添加、具體方式的選擇等，均落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍和公開范圍之內(nèi)。