中晶微米級氧化鋁拋光粉（精拋）

.【產(chǎn)品性能】

本公司生產(chǎn)的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化鋁產(chǎn)品，采用獨特的生產(chǎn)工藝，利用國內(nèi)外先進的生產(chǎn)設(shè)備，通過嚴謹?shù)纳a(chǎn)流程制作而成。該產(chǎn)品具有以下優(yōu)越性能：

●晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻；

●磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；

●研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛

玉的拋光效果，切削力強、出光快

產(chǎn)品粒度分布微米（μm）
規(guī)格型號	平均粒度（D50值)	粒度目數(shù)（＃）	晶型	含量%>		外觀
TWA1	1.0±0.2	8000＃	α相	99.62%		白色粉末
TWA2	2.2±0.4	6000＃	α相	99.62%		白色粉末
TWA3	3.1±0.4	4000＃	α相	99.62%		白色粉末
TWA5	4.7±0.5	3000＃	α相	99.62%		白色粉末
TWA9	6.4±0.6	2000＃	α相	99.62%		白色粉末
TWA GF1	7.0±0.6	2200＃	α相	99.62%		白色粉末
TWA12	8.4±o.6	1500＃	α相	99.62%		白色粉末
TWA15	10.5±1.5	800＃	α相	99.62%		白色粉末

【適用范圍及建議】

①人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。

②鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。

③金屬表面拋光。

④拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石，大理石、花岡巖、水晶等！

中晶微米級氧化鋁拋光粉（中拋）

半導(dǎo)體行業(yè)：單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導(dǎo)體的研拋

半導(dǎo)體領(lǐng)域

【產(chǎn)品規(guī)格】 型號 粒徑D50（μm） 晶型 含量%> 標準（國標） TWA 20 14.5±1.0 α相 99.62 #800 TWA 15 10.2±0.8 α相 99.62 #1000 TWA 12 9.20±0.6 α相 99.62 #1200 TWA 9 6.40±0.5 α相 99.62 #2000 TWA GF 17.00±0.5 α相 99.62 #2500

【產(chǎn)品性能】CA專用半導(dǎo)體研磨粉，韌性高，耐磨，不易造成劃傷、生產(chǎn)時未添加化學助劑。同期和日本FUJIMI FO產(chǎn)品進行對比，研磨效率同期提高1.5倍，表面平坦度TTV有所提高，易于清洗?！具m用范圍及建議】 精密研磨半導(dǎo)體單晶硅片、化合物半導(dǎo)體（砷化鎵晶體，鈮酸鋰晶體等）。

光學玻璃、光電晶體領(lǐng)域

【產(chǎn)品規(guī)格】

產(chǎn)品型號	晶型	中值粒徑D50（μm）	標準	國標準
TWA30	α相	21.5±1.5	#600	W28
TWA20	α相	14.5±1.3	#800	W20
TWA15	α相	10.2±0.8	#1000	W14
TWA9	α相	6.4±0.6	#2000	W10
TWA5	α相	4.7±0.5.5	#3000	W5
TWA3	a相	3.1±0.4	#4000	W3.5

【性能】

TWA系列氧化鋁研磨粉，其高韌性、高磨削效率，耐磨性好，同期和綠碳化硅磨料對比，其研磨效率高出1.5~2倍，且研磨加工后工件表面品質(zhì)較高?！具m用范圍】

專門用于光學鏡片、手機玻璃鏡片、樹脂鏡片、手表玻璃和棱鏡、光學鏡頭等。

中晶微米級氧化鋁拋光粉（粗拋）

光學玻殼領(lǐng)域

【產(chǎn)品規(guī)格

產(chǎn)品型號CODE	中值粒徑D50（μm）	標準	國標
TWA45	35.0±2.0	#360	W50
TWA30	20.5±1.5	#600	W28
TWA20	14.5±1.0	#800	W24

【特點】

①外觀呈純白色，韌性高，不易壓碎，耐磨性好。②形狀呈六角平板狀，不容易造成劃傷，懸浮性好。③研磨效率和傳統(tǒng)研磨粉相比，速率高出2-3倍，且加工后產(chǎn)品表面平坦度好于傳統(tǒng)磨料，并為后期拋光加工省去了不必要的麻煩?！具m用范圍】

適用于顯像管玻殼、光學鏡片的研磨加工。特別適合大尺寸玻殼、玻屏的研磨加工。