設備用途：

在光學玻璃鏡片上和硅太陽能電池上制備類金剛石薄膜，作為減反射膜和保護層，在紅外光學透鏡上制備類金剛石薄膜起到增透和保護作用。

主要技術指標

真空指標極限真空度：≤5x10-4Pa (經(jīng)烘烤除氣后);

系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S;

系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，40分鐘可達到3x10-3 Pa;

停泵關機12小時后真空度：≤10Pa;

真空室真空室為圓筒形真空室，上蓋電動提升，壁掛防污板，選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進行特殊工藝拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封。

樣品可放置最大Φ300mm基片。

真空獲得及測量分子泵+機械泵，數(shù)顯復合真空計(皮拉尼規(guī)+電離規(guī))

氣路配備半導體標準氣路柜，頂部接有排風。整套氣路全部安裝在一個密閉的配氣柜中。氣體的輸送、分配采用工控機+PLC可編程控制，實行封閉式全自動進氣。配備有毒氣體檢測與報警系統(tǒng)。配套氣路使用的氣路管道、VCR接頭、每路氣體配有單向閥、配有氣動截止閥、質(zhì)量流量控制器等全部使用進口件。對于腐蝕性及危險氣體，使用高質(zhì)量、全不銹鋼質(zhì)量流量計

配套電源射頻電源

控制系統(tǒng) 手動或自動

工作壓力控制系統(tǒng)手動或自動

水冷機組可選

尾氣處理裝置可選

電磁線圈可選