高頻等離子設備
高頻等離子感應加熱設備是一種利用真空管式高頻振蕩器在輸出工作線圈上產(chǎn)生較強的高頻、高壓電磁場的設備。這種設備使定向流經(jīng)工作線圈內(nèi)的氬氣、氧氣、氮氣、壓縮空氣迅速電離點燃后形成高溫等離子火炬,亦稱射頻等離子炬,其核心溫度可達20000℃。在冶金領域,高頻等離子設備廣泛應用于耐高溫石英玻璃沉積、制備難熔金屬納米粉體,氧化物、氮化物、碳化物等納米粉體及上述粉末的球化處理,同時也應用于
多晶硅的區(qū)熔、拉伸等工藝。設備功率范圍從8KW到200KW,頻率則在1MHZ到6MHZ之間。
高頻等離子設備應用范圍
高頻等離子感應加熱設備是利用真空管式高頻振蕩器在輸出工作線圈上產(chǎn)生較強的高頻、高壓電磁場,使定向流經(jīng)工作線圈內(nèi)的氬氣、氧氣、氮氣、壓縮空氣,迅速電離點燃后形成高溫等離子火炬,亦稱射頻等離子炬。其核心溫度可達20000℃。廣泛用于耐高溫石英玻璃沉積、制備難熔金屬納米粉體,氧化物、氮化物、碳化物等納米粉體及上述粉末的球化處理,同時也應用于多晶硅的區(qū)熔、拉伸等工藝。
功率:8KW~200KW
頻率:1MHZ~6MHZ