VAF-200(3000度高真空小型電弧爐)
VAF-200金屬熔煉爐是一款小型的電弧熔煉爐,可在不破壞氣體保護(hù)氣氛的條件下翻轉(zhuǎn)合金錠進(jìn)行多次熔煉,且同時(shí)制備多個(gè)樣品,是高等院校、科研院所制備難熔金屬及金屬碳化物試樣的理想設(shè)備。
詳細(xì)參數(shù)
型號(hào)
VAF-200
最高熔煉溫度
3000度
銅坩堝
水冷銅坩堝有5個(gè)工位(也可定制其它數(shù)量的工位)
每個(gè)工位均為半徑是21mm的半球鍋(也可定制其它尺寸)
其中一個(gè)工位底部安裝有吸鑄裝置
真空吸鑄裝置
真空吸注裝置,可鑄造出直徑為5mm,長(zhǎng)度65mm的金屬棒(也可定制其它尺寸)
通過(guò)對(duì)銅模抽氣,使熔融態(tài)的金屬迅速進(jìn)入到銅模中,可得到縮孔較小的金屬棒
主要特點(diǎn)
1、前方、左邊安裝有觀察視窗,腔內(nèi)后方安裝有LED照明燈,方便觀測(cè)起弧熔化狀態(tài)
2、真空室、銅坩堝、起弧電極都采用水冷冷卻方式
3、上下移動(dòng)采用方向盤(pán)式設(shè)計(jì),操作搖桿轉(zhuǎn)動(dòng)靈活
4、為了保證在不破壞氣體保護(hù)氣氛的條件下翻轉(zhuǎn)合金錠進(jìn)行多次熔煉,熔煉爐中采用了機(jī)械手翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)
5、坩堝尺寸小且數(shù)量多,可以方便制作多個(gè)樣品,又可避免樣品間的相互污染
6、底部安裝吸鑄裝置,可鑄造出直徑是5mm的金屬棒
真空腔室
水冷真空腔室的尺寸是Dia182X225
真空腔室上有一個(gè)直徑是120mm的門(mén),便于送樣和取樣
爐門(mén)上有一個(gè)直徑是60mm的觀察窗,方便觀測(cè)起弧熔化狀態(tài)
腔體右側(cè)安裝機(jī)械手,方便翻轉(zhuǎn)合金錠
工作電流
315A
電弧熔煉陰極裝置
引弧方式為高頻引弧 手動(dòng)升降
最高熔煉溫度
3000度
腔體可充氣體類型
氦氣、氬氣
工作時(shí)需充氣體
金屬熔煉過(guò)程中需要高純Ar氣(5N)或5% H2 + 95% Ar
最高熔煉溫度
3000度 (可熔各種難熔金屬)
升壓率
<4Pa/小時(shí)
鎢電極
直徑為10mm的鎢電極(電弧槍可通水冷卻),非自耗式鎢電弧針
電極與樣品的角度和距離可調(diào)節(jié)(最大調(diào)節(jié)距離為80mm)
最高溫度可達(dá)3000℃