VLF-D(冷坩堝定向凝固爐)
VLF-D冷坩堝晶體生長爐
冷坩堝定向凝固爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強(qiáng)大的交變磁場中，利用感應(yīng)渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化，并利用電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝保持非接觸狀態(tài)。這樣可以避免坩堝對(duì)需要熔煉材料的污染。金屬熔化后，籽晶桿邊旋轉(zhuǎn)邊提拉，從而能夠生長出高純度的金屬單晶或合金單晶。
一、設(shè)備特點(diǎn)
1. 采用臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進(jìn)出料方便，爐體結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間小。
2. 支持30段程序控溫，控溫精確，可以控制升溫速率和恒溫時(shí)間。
3. 可更換不同的線圈以滿足熔煉不同量的物料需求。
4. 配有觀察孔，可以清晰查看爐內(nèi)坩堝和物料的情況。
5. 可選配紅外測溫儀，精確測量坩堝內(nèi)液體溫度。
6. 配有分子泵機(jī)組，真空度可達(dá)5×10-4 Pa。
7. 電極和坩堝可在爐體外手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，液體可在腔體內(nèi)傾倒和澆鑄，避免了澆鑄的危險(xiǎn)，并可在真空下操作。
8. 具有二次加料系統(tǒng)。
9. 轉(zhuǎn)動(dòng)電極和爐體之間采用威爾遜密封，密封性能好，轉(zhuǎn)動(dòng)輕松。
10. 可選配水冷機(jī)，具有欠壓和斷水報(bào)警，使用安全可靠。
11. 采用IGBT電源，具備過溫、斷水保護(hù)，并有報(bào)警和輸出電流顯示功能。
12. VLF系列真空懸浮熔煉爐是真空或保護(hù)氣氛條件下用于高純?nèi)蹮?、鑄造金屬材料（如鈦、鎳、鈷等合金）及
稀土超磁、伸縮合金、濺射靶材、
多晶硅、高純稀土金屬的理想設(shè)備，廣泛適用于大專院校、科研院所和工礦企業(yè)。
二、設(shè)備優(yōu)點(diǎn)
1. 能夠熔煉高熔點(diǎn)的金屬材料。
2. 由于沒有坩堝雜質(zhì)，可生長超高純度的金屬單晶。
3. 縮短熔化時(shí)間，實(shí)現(xiàn)快速熔化。
4. 水冷銅坩堝損傷較小，壽命長。
5. 水冷銅坩堝與熔融金屬液軟接觸，減少冷卻負(fù)載，降低能耗。
6. 金屬熔液在非接觸狀態(tài)下易于從坩堝內(nèi)倒出。
三、水冷系統(tǒng)（選配）
感應(yīng)爐和水冷銅坩堝上需要水冷卻。
四、結(jié)構(gòu)說明
本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、澆鑄裝置、充氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、IGBT電源控制系統(tǒng)等組成。
1. 爐體：為全不銹鋼結(jié)構(gòu)，采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，確保爐殼溫度不超過60℃。爐蓋手動(dòng)開啟并配有鎖緊裝置，帶觀察孔，方便查看爐內(nèi)情況。
2. 爐架：由型鋼鋼板組焊成柜架結(jié)構(gòu)，爐體安裝在爐架上。
3. 回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)：通過法蘭連接感應(yīng)線圈，線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出，密封采用威爾遜密封，可靠性高。坩堝可通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)任意角度旋轉(zhuǎn)完成溶化后的傾倒?jié)茶T。
4. 真空系統(tǒng)：采用二級(jí)泵（擴(kuò)散泵或分子泵）與直聯(lián)泵組合，配有高真空擋板閥以及KF快速連接真空放氣閥和充氣閥。
5. 電源控制系統(tǒng)：采用IGBT懸浮專用電源和全數(shù)字電路，電氣系統(tǒng)設(shè)有過流、過壓保護(hù)，電控屏按西門子標(biāo)準(zhǔn)制作，控溫精度高，操作便捷。
6. 水冷系統(tǒng)：包括各種閥門和管道，具備斷水時(shí)聲光報(bào)警及自動(dòng)切斷加熱電源功能。
7. 水溫檢測：安裝溫度計(jì)檢測水冷銅坩堝的出水溫度，溫度過高時(shí)自動(dòng)保護(hù)，防止坩堝損壞。
8. 精密提拉機(jī)構(gòu)：支持邊旋轉(zhuǎn)邊提拉操作。
技術(shù)參數(shù)
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河南 - 鄭州
2025年03月28日 ~ 30日
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