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脈沖激光鍍膜設(shè)備

脈沖激光鍍膜設(shè)備

323
規(guī)格/型號:PLD
品牌:慧宇
應(yīng)用領(lǐng)域:材料制備
產(chǎn)地:遼寧 - 沈陽
廠家/供應(yīng)商:沈陽慧宇真空技術(shù)有限公司
咨詢電話::024-24323981(請說明信息源自“中冶有色技術(shù)網(wǎng)”)
更新時間:2024-10-16
級別:待認(rèn)證

脈沖激光鍍膜設(shè)備說明介紹

脈沖激光鍍膜設(shè)備

脈沖激光鍍膜設(shè)備

脈沖激光鍍膜設(shè)備

主要用途:

用激光打在靶材上,制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、超硬薄膜等,是一種非常適用的鍍膜方式。

結(jié)構(gòu)特點(diǎn):

系統(tǒng)由球形結(jié)構(gòu)的超高真空沉積室、樣品支持架、多工位激光轉(zhuǎn)靶、真空獲得、真空測量、氣路、PLC及電控系統(tǒng)等組成。

技術(shù)指標(biāo):

1、沉積室:球形?450mm,接換樣活門和激光入射窗口、樣品架及各種法蘭接口。

2、真空度:分子泵系統(tǒng)極限真空:6.6×10-8Pa。

3、樣品架組件:樣品尺寸2英寸,樣品加熱溫度:白金絲為加熱體,在有氧氣氣氛下800°C可長期使用??販鼐龋骸?°C。樣品可自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)數(shù)0-30轉(zhuǎn)/分;可交接、激光沉積和在線檢測位置。

4、四工位激光轉(zhuǎn)靶:可安裝四塊2英寸靶材。每塊靶材可公轉(zhuǎn)到濺射位置并精確定位、自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)均由步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動,自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速0-30轉(zhuǎn)/分可調(diào)。

5、氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制(氧氣)
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